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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展在半導(dǎo)體工業(yè)中,薄膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路、光電器件以及傳感器等領(lǐng)域。薄膜的厚度是影響器件性能和可靠性的關(guān)鍵因素之一,因此,精準(zhǔn)的薄膜厚度測量至關(guān)重要。薄膜厚度測量儀器作為半導(dǎo)體制造過程中的工具,發(fā)揮著重要作用。一、薄膜厚度的測量方法薄膜厚度的測量方法主要有幾種,其中常見的包括光學(xué)干涉法、X射線反射法、納米壓痕法和原子力顯微鏡(AFM)法等。這些方法各有優(yōu)缺點(diǎn),通常根據(jù)實(shí)際需求和膜層材料的特性來選擇合適的測量方法。1.光學(xué)干涉法:利用光在薄膜界面發(fā)生干涉現(xiàn)象來測量薄膜厚度。該...
查看詳情2025年3月11-13日,慕尼黑上海光博會在上海新國際博覽中心圓滿收官。本屆展會為業(yè)界呈現(xiàn)了一場高層次的科技盛宴。同時,本屆展會從展示范圍的廣泛度、光電產(chǎn)品的豐富度、趨勢傳遞的新穎度、交流合作的深入度等方面充分展現(xiàn)了全球化浪潮下,光電行業(yè)正通過技術(shù)創(chuàng)新、國際合作、產(chǎn)業(yè)鏈整合等方式得到快速發(fā)展的態(tài)勢,贏得了行業(yè)企業(yè)和合作伙伴的高度認(rèn)可和贊譽(yù)。精彩盛況展會風(fēng)采展會期間人頭攢動,頤光科技作為光學(xué)薄膜及納米結(jié)構(gòu)測量解決方案提供商,本次展會攜核心技術(shù)產(chǎn)品光譜橢偏儀、反射膜厚儀及光學(xué)膜...
查看詳情慕尼黑上海光博會將于2025年3月11-13日在上海新國際博覽中心盛大召開。2025年正值慕尼黑上海光博會20周年,作為亞洲激光、光學(xué)、光電行業(yè)的年度盛會,本屆展會以“躬耕不輟,智啟新程”為主題,超過1400家展商將齊聚申城,共同探索光電產(chǎn)業(yè)的未來發(fā)展方向。展會邀請函頤光科技將攜核心技術(shù)產(chǎn)品和解決方案參展,我們誠摯邀請各位新老朋友蒞臨頤光展臺,希望通過此次機(jī)會與業(yè)內(nèi)同仁、專家們共同交流探討、共商合作、互利發(fā)展。展館平面圖頤光科技展位:E7館7472產(chǎn)品介紹關(guān)于我們武漢頤光科技...
查看詳情在材料科學(xué)與半導(dǎo)體領(lǐng)域不斷探索創(chuàng)新的征程中,橢圓偏光儀憑借其光學(xué)測量原理,正發(fā)揮著不可替代的關(guān)鍵作用,為這些領(lǐng)域帶來諸多創(chuàng)新應(yīng)用。1、在材料科學(xué)領(lǐng)域,橢圓偏光儀成為研究材料微觀結(jié)構(gòu)與光學(xué)性質(zhì)的得力助手。對于新型納米材料,它能精確測量材料的厚度、折射率等參數(shù)。比如在二維納米材料研究中,通過偏光儀可以無損且高精度地確定石墨烯等材料的層數(shù)。由于不同層數(shù)的石墨烯光學(xué)性質(zhì)存在細(xì)微差異,偏光儀能夠敏銳捕捉這些變化,為材料的制備與性能優(yōu)化提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。2、在材料表面和界面研究方面,偏光...
查看詳情紅外橢偏儀是一種高度精密的光學(xué)分析儀器,主要功能是在紅外光譜范圍內(nèi)對材料進(jìn)行無損表征。它通過測量材料對紅外光的反射或透射過程中偏振狀態(tài)的變化,從而推斷出樣品的諸多物理屬性,如介電常數(shù)、光學(xué)性質(zhì)、薄膜厚度等。作為一種先進(jìn)的光學(xué)測量工具,紅外橢偏儀能夠以非破壞性的方式獲取材料的多種物理性質(zhì)。具體而言,它可以精確測量如下幾類關(guān)鍵物理量:1、光學(xué)常數(shù):包括復(fù)折射率(實(shí)部n與虛部k)、吸收系數(shù)α。這些參數(shù)對于理解和預(yù)測材料的電磁行為至關(guān)重要,如色散關(guān)系、反射率、透射率等。2、薄膜厚度:...
查看詳情光譜橢偏儀(SE)是一種高精度的光學(xué)測量儀器,廣泛應(yīng)用于薄膜材料的表征與質(zhì)量控制。通過測量反射光的偏振變化,光譜橢偏儀能夠提供薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等重要參數(shù),進(jìn)而評估薄膜的光學(xué)性質(zhì)、表面質(zhì)量以及結(jié)構(gòu)特征。近年來,隨著薄膜技術(shù)的進(jìn)步,橢偏儀在薄膜質(zhì)量控制中的應(yīng)用取得了顯著的創(chuàng)新性進(jìn)展。1、薄膜厚度與光學(xué)常數(shù)的精準(zhǔn)測量橢偏儀常見的應(yīng)用是薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)的測量。在薄膜的生產(chǎn)過程中,厚度控制對于其性能至關(guān)重要。例如,在半導(dǎo)體制造中,薄膜的厚度直接影響器件的電學(xué)性能和可靠性。...
查看詳情027-87001728
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